主要特點(diǎn)：

高選擇比蝕刻：通過對磷酸中硅濃度的檢測和控制，可以實(shí)現(xiàn)高選擇比的蝕刻，滿足特定的工藝要求

溫度控制：設(shè)備能夠?qū)γ總€(gè)區(qū)域的溫度進(jìn)行精確控制，以確保晶圓表面蝕刻的均一性。

高潔凈度清洗：采用先進(jìn)的物理清洗工具，能夠達(dá)到高潔凈度的清洗效果，去除表面的微小顆粒和雜質(zhì)。

環(huán)保節(jié)能：磷酸可以采用可回收方式，降低藥液的使用成本，同時(shí)也符合環(huán)保要求。

重要參數(shù)

設(shè)備型號與尺寸：

不同廠家、不同型號的磷酸清洗機(jī)會有不同的尺寸。例如，CSE-SZ2011-16型高溫磷酸清洗機(jī)整機(jī)尺寸約2800mm（L）×1200mm(w)×1900mm（H）。

清洗方式：

可分為單片式清洗、枚葉式清洗、噴灑式清洗等。單片式清洗具有高潔凈度、高均一性、沒有交叉污染等優(yōu)點(diǎn)；枚葉式清洗則在晶片表面的微粒數(shù)控制等方面有優(yōu)勢。

溫度控制：

能夠?qū)γ總€(gè)區(qū)域的溫度進(jìn)行精確控制，以確保晶圓表面蝕刻的均一性。對于不同的工藝需求，可能需要不同的溫度設(shè)置。

藥液供應(yīng)系統(tǒng)：

自動供酸系統(tǒng)（CDS）可集中配送刻蝕液，經(jīng)管道至磷酸清洗機(jī)。該系統(tǒng)具有自動化程度高、配比精確、操作簡便等特點(diǎn)。

安全保護(hù)裝置：

設(shè)有EMO急停裝置、強(qiáng)電弱點(diǎn)隔離、設(shè)備三層防漏托盤傾斜漏液報(bào)警等安全保護(hù)措施，確保設(shè)備運(yùn)行的安全性。

工作照明與臺面板材質(zhì)：

上方防酸型照明，方便操作人員觀察清洗過程；臺面板為優(yōu)質(zhì)10mmPP板（帶有圓形漏液孔，清除臺面殘留液體）。

廢液排放與環(huán)保性能：

具備廢液排放管路，磷酸采用可回收方式，可降低藥液的使用成本，同時(shí)也符合環(huán)保要求。

其他附件：

水、氣***左右各兩套，便于操作人員進(jìn)行額外的清洗或處理工作。